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        在顯像管和陰極射線管的生產(chǎn)中，熒光屏內(nèi)壁采用噴涂或沉淀的方法涂上一層熒光材料。它是由鋅或其他金屬硫化物組成的熒光粉顆粒，與硅酸鉀粘結而成。需要使用超純水，所以就必須配置超純水設備。鐵含量在50ppb以上會使顏色變淺、變暗、閃光，并會產(chǎn)生氣泡、條紋、漏光點等廢品。

       在晶體管、集成電路生產(chǎn)中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關系很大。水中的堿金屬（K、Na等）會使絕緣膜耐壓不良，重金屬（Au、Ag、Cu等）會使PN結耐壓降低，B、AL、Ga等會使N型半導體特性惡化，水中細菌高溫碳化后的磷（約占灰分的20%～50%）會使P型硅片上的局部區(qū)域變化為N型硅而導致器件性能變壞。水中的顆粒（包括細菌）如吸附在硅片表面，就會引起電路短路或特性變差。

       以上可以看出電子半導體行業(yè)大多是需要用到超純水設備的，設備制取的超純水中不含這些雜質(zhì)，微生物，金屬離子等。電阻率可達18兆歐，純度很高。